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第20章 国产之光 (第3/4页)

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究黑科技系统的那几天,收藏夹中一直收藏着一件天价商品。

euv光刻机!

这是制造芯片最重要的设备,也是目前国外封锁我们的压轴重器。

很多人以为我们制造euv光刻机,追赶的目标是荷兰阿斯麦,可实际却是在挑战整个西方最尖端的技术,光刻机最关键的部件,包括漂亮国的cymer光源、德国通快的激光器、德国蔡司的光学系统、英国edward的真空技术,德国berglas的静电吸盘等等,

虽然我们拥有41个工业大类,207个工业中类,666个工业小类,但在各行各业任然存在被卡脖子的问题,其中就以光刻机最为突出。

光刻机设备是所有半导体设备中复杂度最高、精密度最高、单价最高的设备,全球光刻机销售额足足有130亿美元,而国产化率……是0%。

在罗离穿越之前,魔都一家科技公司研发的步进扫描投影光刻机,最大可满足90nm的工艺,可用于8寸线或12寸线的大规模生产。

而28nm光刻机还在研制中,但从无到有,需要的技术积累实在太恐怖了。

在手机行业,最最重要的就是处理器芯片,而主流芯片的技术一直都掌握在外国公司的手中,想要打开芯片封锁,就必须拥有光刻机技术。

无论于公于私,钉子科技想要真正做到国产之光,光刻机都是绕不过的一个坎。

这个世界的科技水平虽然不如罗离原本的世界,但大体格局并未改变,依旧是国外垄断跟多高尖端技术,其中同样包括光刻机技术。

现在全球顶级光刻机asml最新一代是5nm精度,而国内连28nm都没研制出来,这其中的差距肉眼可见。

想要追上国外,至少也得是5nm级别,若想要真正超过,则需要朝着3nm奋斗。

所以,罗离在黑科技系统的收藏夹中,置顶的便是一台3nm级别的光刻机!

一旦罗离攒够足够的系统积分兑换出这台3nm光刻机,将会瞬间突破人类在这一领域所能达到的极限技术,考虑到芯片的广泛用途,甚

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