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埃因霍芬市政大厅，闽台芯片和awsl公司联合租用这里召开新闻发布会。
任何技术突破都会引来广泛关注，尤其是浸润式光刻机这种突破“物理极限”的东西。
因此偌大的市政大厅早早的就坐满了各路记者媒体，架好了各种长枪短炮，等待着这个划时代的发布会。
“这是真的吗？awsl真的打破了物理极限，让摩尔定律能够继续延伸下去吗？我怎么感觉这是一个骗局呢？”
这是现场和全世界所有镜头前的观众们都在脑中浮现的问题。
毕竟这种所谓“打破极限”的发布会，全世界不仅做过一次，就在半年以前，利康公司还宣布自己新研发的x光扫描机能打破极限，实现193纳米以下的电路制程。
可后来才发现，利康那次根本就是个骗局，以x光的线宽，根本没法做到那么精细。
利康之所以发布这样的消息，只是为了挽救公司的股价，前任利康总裁在丑闻爆发后因此引咎下课。
那么现在闽台芯片和awsl的联合发布会，是否也是这个套路？为了给新成立的闽台芯片打响名头呢？
随着王仲敏带着awsl公司一众高管出场，所有人都临危正坐起来，等待着答案。
王仲敏倒是没吊胃口，上来直接宣布新一代极紫外浸润式光刻机研制成功。
“曾经的我们保守质疑，有人说水里不可避免会产生气泡，会让光的折射不受控制；有人说高能镭射光束会加热，导致光刻受损；还有人说曝光平台需要高速移动，无法让水保持在曝光平台上。”
“我想说这些都是实实在在存在的问题，不过现在已经都被我们通过技术手段解决了，而根据我们现在的研究成果，新一代光刻机已经可以推进到65纳米的精度上。”
说着王仲敏拿出一块指甲盖大小的芯片，振奋的告诉所有人：“现在我们已经可以在过去的基础上，将晶体管数量增加一倍，同时能耗减少一倍，同时如果我们继续投入技术研发，我有信心继续按照摩尔定律突破65纳米！”
蛤？
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